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Agent de nettoyage pour semi-conducteurs HFO-1233zd(Z) - Nettoyage de précision de qualité semi-conducteur, remplacement HCFC-141B durable et conforme à la réglementation pour le nettoyage industriel polyvalent

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Dissolvants de chimie organique

Additifs de revêtement

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Photoinitiator UV

Glycol de polypropylène de PPG

Intermédiaires pharmaceutiques

Amine de polyéther

Produits chimiques cosmétiques

Colorant chimique

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Agent de nettoyage pour semi-conducteurs HFO-1233zd(Z) - Nettoyage de précision de qualité semi-conducteur, remplacement HCFC-141B durable et conforme à la réglementation pour le nettoyage industriel polyvalent

Nom De Marque:	Chemfine
Numéro De Modèle:	HFO-1233zd
MOQ:	1000KG
Conditions De Paiement:	LC, T/T

Les informations détaillées

Description de produit

Les informations détaillées

Lieu d'origine:

Chine

Mettre en évidence:

Nettoyage de précision de qualité semi-conducteur HFO-1233zd(Z)

Remplacement du HCFC-141B durable et conforme à la réglementation

Solution de nettoyage industriel polyvalente Agent de nettoyage pour semi-conducteurs

Description de produit

Remplacement d'un agent de nettoyage de semi-conducteurs

HCFC-141B HFO-1233zd HFO-1336mz FS-39 HCFC de remplacement Cas 99728-16-2

Points de vente du produit

Remplacement idéal du HCFC-141B:Notre HFO-1233zd(Z offre des performances de nettoyage équivalentes à celles du HCFC-141B avec un profil environnemental supérieur, ce qui en fait le remplacement parfait pour les procédés de nettoyage existants.
Nettoyage de précision de qualité semi-conducteur:Avec une pureté ultra-haute et des niveaux d'impuretés contrôlés, notre CAS 99728-16-2 est spécialement conçu pour le nettoyage des plaquettes de semi-conducteurs, le décapage des photorésistes et le nettoyage de composants électroniques de précision.
Durable et conforme à la réglementation:Potentiel zéro d'appauvrissement de la couche d'ozone et potentiel très faible de réchauffement climatique, pleinement conforme au protocole de Montréal, aux réglementations de l'UE sur les gaz fluorés et au programme SNAP de l'EPA américain.
Solution polyvalente de nettoyage industriel:Convient à un large éventail d'applications, y compris le dégraissage des métaux, le nettoyage des composants aérospatiaux, le dégraissage des vapeurs et les systèmes de nettoyage à base de solvants.
Sécurisé et facile à manipuler:Non inflammable, faible toxicité, compatible avec la plupart des matériaux couramment utilisés dans les équipements de nettoyage industriels, réduisant les risques opérationnels et simplifiant l'intégration des processus.

Introduction du produit

HFO-1233zd(Z), également connu sous le nom de Cis-1-chloro-3,3,3-trifluoropropène, est désigné par le numéro CAS 99728-16-2. Il s'agit d'un solvant hydrofluorooléfine (HFO) écologique de nouvelle génération, spécialement développé comme substitut de haute performance pour le HCFC-141B,HFO-1336mz, FS-39 et autres HCFC appauvrissant la couche d'ozone et solvants fluorés à GWP élevé.

Avec un potentiel d'appauvrissement de la couche d'ozone nul (ODP), un potentiel de réchauffement climatique très faible (GWP) et une excellente solvabilité,L' HFO-1233zd(Z est devenu l' agent de nettoyage préféré pour l' industrie des semi-conducteurs et de l' électroniqueIl est largement utilisé dans le nettoyage de précision, le dégraissage par vapeur, l'élimination des résidus photorésistants et d'autres procédés de nettoyage industriel critiques.fournir des performances de nettoyage fiables tout en aidant les fabricants à respecter les réglementations environnementales mondiales.

Applications détaillées

Fabrication de semi-conducteurs et électronique

Utilisation principale pour le nettoyage de précision des plaquettes semi-conducteurs, en éliminant les résidus de photorésistance, les contaminants organiques et les particules fines des plaquettes et des composants électroniques;idéal pour les procédés de nettoyage en salle blanche.

Dégrassage par vapeur industrielle

Utilisé dans les systèmes de dégraissage par vapeur pour les composants métalliques, plastiques et céramiques, éliminant efficacement les huiles, les graisses, les résidus de flux et les fluides d'usinage.

Ingénierie aérospatiale et de précision

Pour le nettoyage de composants aérospatiaux de haute précision, de pièces optiques et de dispositifs médicaux, garantissant un zéro résidu et des normes de propreté élevées.

Réfrigération et soufflage de mousse auxiliaire

Utilisé également comme agent de soufflage à bas GWP pour les mousses de polyuréthane et comme composant dans les mélanges de réfrigérants à bas GWP.

Nettoyage industriel général

Convient pour le dégraissage à usage lourd, le nettoyage des cartes de circuits imprimés et d'autres applications de nettoyage industriel nécessitant une solvabilité élevée et une conformité environnementale.

Propriétés physiques de base

Les biens immobiliers	Valeur/description
Numéro CAS	Je vous en prie.
Nom chimique	Cis-1-chloro-3,3,3-trifluoropropène (HFO-1233zd(Z))
Formule moléculaire	(Z) -CF3CH=CHCl
Poids moléculaire	130.5 g/mol
Point d'ébullition (1 atm)	390,0 °C
Point de fusion	- 101,0 °C
Densité du liquide (20°C, 760 mmHg)	1.312±0,06 g/cm3
Viscosité à 25°C	00,37 mPa·s
Pression de vapeur à 20°C	49 kPa
Solubilité dans l'eau	950 ppm
Point d'éclair	Aucune
Valeur KB	34

Spécifications techniques

Titre	Les spécifications	RÉSULTAT standard
Purification (Wt%)	≥ 99.8	≥ 99.8
Taux d'humidité (Wt%)	≤ 0002	≤ 0002
Acidité (en HCl, Wt%)	≤ 00001	≤ 00001
Résidu d'évaporation (Wt%)	≤ 001	≤ 001
Test du chlorure	Passez.	Passez.

Applications spécialisées

Nettoyage des plaquettes de semi-conducteurs

Notre HFO-1233zd(Z est spécialement formulé pour les exigences strictes de la fabrication de semi-conducteurs, éliminant efficacement les résidus photorésistants,les contaminants organiques et les particules sous-microniques provenant des plaquettes de silicium sans endommager les structures délicates des plaquettesSa pureté extrêmement élevée garantit une contamination zéro, ce qui la rend idéale pour la production de semi-conducteurs à nœud avancé.

Dégrassage par vapeur de précision

Avec un point d'ébullition approprié et une excellente solvabilité, HFO-1233zd(Z) est parfait pour les systèmes de dégraissage par vapeur, offrant un nettoyage rapide et sans résidus du métal,composants en plastique et en céramique dans l'industrie automobileSa nature non inflammable assure un fonctionnement sûr dans les équipements de dégraissage à haute température.

HCFC-141B et remplacement des solvants à GWP élevé

En remplacement des HCFC-141B, HFO-1336mz, FS-39 et autres solvants fluorés à GWP élevé,notre HFO-1233zd(Z maintient une performance de nettoyage équivalente tout en éliminant le risque d'appauvrissement de la couche d'ozone et en réduisant l'empreinte carbone, aidant les fabricants à passer en douceur à des procédés de nettoyage respectueux de l'environnement sans modification coûteuse des équipements.

Emballage et logistique

Emballage standard:25 kg de fûts en acier homologués par l'ONU, 250 kg de fûts en acier ou 1000 kg de sacs IBC.

Réservoir:Conserver dans un entrepôt frais, sec et bien ventilé, à l'abri des rayons directs du soleil, des sources de chaleur et des matériaux incompatibles.

Classe de sécurité:Produit chimique non inflammable et peu toxique, conforme aux réglementations internationales sur le transport des marchandises dangereuses.

Synonymes

Cis-1-chloro-3,3Les substances visées à l'annexe I du règlement (UE) no 528/2012 doivent être soumises à une évaluation préalable.

Questions fréquemment posées

Q: Le HFO-1233zd(Z) est-il un remplacement direct du HCFC-141B?

R: Oui, le HFO-1233zd(Z) a une solvabilité, un point d'ébullition et une compatibilité des matériaux similaires à ceux du HCFC-141B, ce qui en fait un remplacement quasi automatique pour la plupart des procédés de nettoyage et de dégraissage existants,avec un minimum de modifications d'équipement ou aucune modification requise.

Q: Quel est le profil environnemental du HFO-1233zd(Z)?

A: L'HFO-1233zd(Z a un potentiel d'appauvrissement de la couche d'ozone nul (PDO) et un potentiel de réchauffement planétaire (PGO) ultra-faible inférieur à 1, ce qui le rend pleinement conforme au protocole de Montréal,Règlement de l'UE sur les gaz fluorés et programme SNAP de l'EPA des États-Unis pour une utilisation comme solvant de nettoyage.

Q: Le HFO-1233zd ((Z) est-il inflammable?

R: Non, le HFO-1233zd(Z) n'a pas de point d'allumage, ce qui le rend non inflammable dans des conditions de fonctionnement normales, ce qui réduit considérablement les risques d'incendie dans les installations de nettoyage et de fabrication industrielles.

Q: Quels sont les niveaux de pureté de HFO-1233zd(Z) que vous proposez?

R: Nous offrons une qualité industrielle standard (pureté ≥99,5%) et une qualité électronique / semi-conducteur (pureté ≥99,8%) HFO-1233zd(Z), avec un contrôle strict de l'humidité,l'acidité et les impuretés résiduelles pour répondre aux besoins de différentes applications.

Étiquettes:

4746-97-8

2 4 6-Tri- (6-aminocaproic acide) - 1 triazine 3 5

modificateur de peinture de cas 80584-91-4

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Additifs de revêtement

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Photoinitiator UV

Glycol de polypropylène de PPG

Intermédiaires pharmaceutiques

Amine de polyéther

Produits chimiques cosmétiques

Colorant chimique

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Produit chimique divers

Agent de nettoyage pour semi-conducteurs HFO-1233zd(Z) - Nettoyage de précision de qualité semi-conducteur, remplacement HCFC-141B durable et conforme à la réglementation pour le nettoyage industriel polyvalent

Nom De Marque:	Chemfine
Numéro De Modèle:	HFO-1233zd
MOQ:	1000KG
Conditions De Paiement:	LC, T/T

Les informations détaillées

Description de produit

Les informations détaillées

Lieu d'origine:

Chine

Nom de marque:

Chemfine

Numéro de modèle:

HFO-1233zd

Quantité de commande min:

1000KG

Conditions de paiement:

LC, T/T

Mettre en évidence:

Nettoyage de précision de qualité semi-conducteur HFO-1233zd(Z)

Remplacement du HCFC-141B durable et conforme à la réglementation

Solution de nettoyage industriel polyvalente Agent de nettoyage pour semi-conducteurs

Description de produit

Remplacement d'un agent de nettoyage de semi-conducteurs

HCFC-141B HFO-1233zd HFO-1336mz FS-39 HCFC de remplacement Cas 99728-16-2

Points de vente du produit

Remplacement idéal du HCFC-141B:Notre HFO-1233zd(Z offre des performances de nettoyage équivalentes à celles du HCFC-141B avec un profil environnemental supérieur, ce qui en fait le remplacement parfait pour les procédés de nettoyage existants.
Nettoyage de précision de qualité semi-conducteur:Avec une pureté ultra-haute et des niveaux d'impuretés contrôlés, notre CAS 99728-16-2 est spécialement conçu pour le nettoyage des plaquettes de semi-conducteurs, le décapage des photorésistes et le nettoyage de composants électroniques de précision.
Durable et conforme à la réglementation:Potentiel zéro d'appauvrissement de la couche d'ozone et potentiel très faible de réchauffement climatique, pleinement conforme au protocole de Montréal, aux réglementations de l'UE sur les gaz fluorés et au programme SNAP de l'EPA américain.
Solution polyvalente de nettoyage industriel:Convient à un large éventail d'applications, y compris le dégraissage des métaux, le nettoyage des composants aérospatiaux, le dégraissage des vapeurs et les systèmes de nettoyage à base de solvants.
Sécurisé et facile à manipuler:Non inflammable, faible toxicité, compatible avec la plupart des matériaux couramment utilisés dans les équipements de nettoyage industriels, réduisant les risques opérationnels et simplifiant l'intégration des processus.

Introduction du produit

Applications détaillées

Fabrication de semi-conducteurs et électronique

Dégrassage par vapeur industrielle

Ingénierie aérospatiale et de précision

Pour le nettoyage de composants aérospatiaux de haute précision, de pièces optiques et de dispositifs médicaux, garantissant un zéro résidu et des normes de propreté élevées.

Réfrigération et soufflage de mousse auxiliaire

Utilisé également comme agent de soufflage à bas GWP pour les mousses de polyuréthane et comme composant dans les mélanges de réfrigérants à bas GWP.

Nettoyage industriel général

Propriétés physiques de base

Les biens immobiliers	Valeur/description
Numéro CAS	Je vous en prie.
Nom chimique	Cis-1-chloro-3,3,3-trifluoropropène (HFO-1233zd(Z))
Formule moléculaire	(Z) -CF3CH=CHCl
Poids moléculaire	130.5 g/mol
Point d'ébullition (1 atm)	390,0 °C
Point de fusion	- 101,0 °C
Densité du liquide (20°C, 760 mmHg)	1.312±0,06 g/cm3
Viscosité à 25°C	00,37 mPa·s
Pression de vapeur à 20°C	49 kPa
Solubilité dans l'eau	950 ppm
Point d'éclair	Aucune
Valeur KB	34

Spécifications techniques

Titre	Les spécifications	RÉSULTAT standard
Purification (Wt%)	≥ 99.8	≥ 99.8
Taux d'humidité (Wt%)	≤ 0002	≤ 0002
Acidité (en HCl, Wt%)	≤ 00001	≤ 00001
Résidu d'évaporation (Wt%)	≤ 001	≤ 001
Test du chlorure	Passez.	Passez.

Applications spécialisées

Nettoyage des plaquettes de semi-conducteurs

Dégrassage par vapeur de précision

HCFC-141B et remplacement des solvants à GWP élevé

Emballage et logistique

Emballage standard:25 kg de fûts en acier homologués par l'ONU, 250 kg de fûts en acier ou 1000 kg de sacs IBC.

Réservoir:Conserver dans un entrepôt frais, sec et bien ventilé, à l'abri des rayons directs du soleil, des sources de chaleur et des matériaux incompatibles.

Classe de sécurité:Produit chimique non inflammable et peu toxique, conforme aux réglementations internationales sur le transport des marchandises dangereuses.

Synonymes

Cis-1-chloro-3,3Les substances visées à l'annexe I du règlement (UE) no 528/2012 doivent être soumises à une évaluation préalable.

Questions fréquemment posées

Q: Le HFO-1233zd(Z) est-il un remplacement direct du HCFC-141B?

Q: Quel est le profil environnemental du HFO-1233zd(Z)?

Q: Le HFO-1233zd ((Z) est-il inflammable?

Q: Quels sont les niveaux de pureté de HFO-1233zd(Z) que vous proposez?

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